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半导体硅片生产用超纯水处理设备

产品介绍
硅片,是制作集成电路的重要材料,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展,使硅片(集成电路)这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于航空航天、工业、农业和国防,甚至悄悄进入每一个家庭。
工艺设计
1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
设备特点
1、连续运行禅水质稳定品质更佳。
2、系统运行可靠性稳定。
3、运行成本低。
4、占地面积小。
5、自动化程度高。
6、操作及维护简单,无需接触酸碱。
7、使用安全及环境良好。
8、无污水排放,无环境污染。
技术参数
电导率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水温度:5~35℃
总硬度:<0.5ppm
有机物:<0.5 ppm,TOC为零
氧化物:≤0.05ppm
铁、锰:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm
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